Tuesday, September 19, 2006

羅門哈斯製造技術中心 12月於新竹正式揭幕半導體設備商積極佈局 搶攻亞太市場商機

(記者宋丁儀∕台北) 2006/09/13

 全球最大半導體化學機械研磨製程材料供應商羅門哈斯(Rohm and Haas)耗資5,000萬美元於竹南打造的製造技術中心,將在9月取得使用執照,羅門哈斯台灣區總經理楊肇華表示,該中心預定12月正式開幕,而第二期最快2007年第二季完工、2008年第一季營運生產,將落實亞太在地化技術支援及生產。

 2006年台灣半導體設備暨材料展(Semicon Taiwan),除了羅門哈斯,還包括佳能(Canon)、科磊(KLA-Tencor)、亞舍立(Axcelis)及AVIZA等國際大廠,皆重裝備登台,使得展出廠商數及參展人數都較主辦單位預期還高,也有許多國際設備材料大廠首次在台灣舉辦最新產品發表會,顯示其對台灣市場之重視。

 羅門哈斯台灣區總經理楊肇華表示,竹南亞大製造與技術中心是羅門哈斯在亞太區第二個製造技術中心,第一階段的辦公室及工廠已近完工,將在9月取得使用執照,已有部份在台員工進駐;第二階段技術中心及化學機械研磨製程(CMP)實驗室,也超越進度趕工中,預計2007年第二季完工,最快2008年第一季投片營運,該技術中心將在12月12日正式舉行開幕典禮。

 羅門哈斯此亞太製造技術中心佔地2.3公頃、耗資5,000萬美元,是由相當有晶圓廠設計經驗的潘冀建築師事務所設計,共擁有3,000~5,000平方英呎的10級無塵室,未來將投入IC 1000研磨墊生產,及最新IC 1000AT、VisionPad等65奈米、45奈米以下製程所需研磨墊量產,就近服務最大客戶台積電(2330)、聯電(2303);羅門哈斯表示,當初欲興建亞太製造技術中心,韓國、上海都曾列入選項,但最後鍾情新竹地區,就是為了貼近新竹、台中客戶需求。

 此外,眾多知名設備品牌也在Semicon Taiwan中重裝備登場,由於ASML及尼康(Nikon)都宣稱其技術已可達22奈米以下浸潤式顯影,並先後推出1900i、610系列產品,11日展場也傳出,暫且落後的佳能則將在2006年日本大展中推出下一世代浸潤式微影設備,且性能較競爭對手更佳,台灣方面則預計2007年下半引進此機種。

 由於市場預期,2007年半導體業者整體資本支出恐較2006年持平保守,但2008年資本支出將再度成長,各家設備大廠皆摩拳擦掌,以台灣為亞太事業佈局的前哨站;其中,在亞太市場剛起步的AVIZA表示,過去原子層沉積設備(ALD)客戶多以記憶體業者為主,但隨著亞太佈局加快,AVIZA的化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)及蝕刻機(Etch),都逐漸打開邏輯客戶群,甚至是因應客戶量產Flash的需求。

 由於近年來不乏台灣設備供應商切入離子植入機,因此國外業者也藉由參展來台鞏固商機;目前離子植入機佔營收8成的亞舍立指出,儘管不乏台灣廠商切入此領域,但亞舍立每年投資巨額研發費用開發高劑量(HD)及高能(HE)離子植入系統研發,市佔率高達3成以上,短時間競爭對手仍無法取代。

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