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TEL、ASML攜手45奈米製程設備研發32奈米製程有機會再合作 應材如臨大敵

（記者宋丁儀／台北） 2006/12/07

　半導體市場再度出現策略結盟！日系設備大廠TEL（Tokyo Electron）與荷蘭設備商ASML雙方宣佈合作，未來攜手進軍次世代45奈米製程設備研發。由於目前ASML在45奈米製程設備以下領先佳能（Canon）、尼康（Nikon），是最大浸潤式微影設備商，因此與TEL合作，對於龍頭大廠美商應用材料（Applied Materials）可說如臨大敵。

TEL及ASML目前分列全球半導體設備供應商第二、第三，根據VLSI資料統計，2005年應材、TEL及ASML市場佔有率分別是 19.0%、 14.9%及11.9%，其中ASML是前段浸潤式微顯影設備最大供應商。不過，隨著TEL與ASML宣佈在次世代先進半導體設備展開合作，未來合作綜效顯然值得身為龍頭應材重視。

TEL與ASML共同宣佈，未來將共同開發先進半導體製程設備及工具，首先雙方合作的第一步，就是以提升45奈米製程設備的生產力及效能為目標，未來並可能延續合作至45奈米製程以下。事實上，自2004年雙方便已經展開部份設備開發的交流活動，包括先進製程及微顯影技術等，此次則更加具體化雙方在45奈米製程設備合作，展現彼此長期合作的決心。

TEL表示，未來將提供自身的光阻覆蓋顯影系統（Track）以及光阻塗佈（resist coater/developer）給位於荷蘭Veldhoven總部的ASML，並在Veldhoven搭配ASML本身浸潤式微影先進機種XT:1900i，成為完整的解決方案。2006年ASML發表了第五代浸潤式微顯影機種1900i，並預估2007年出開始出貨，供應下半年半導體業者生產之用。

雙方指出，這項合作案將以彼此獨特的設備進行搭配互補，以達成45奈米製程設備最佳效能，預估每小時將可生產超過180片45奈米製程晶圓。由於雙方的合作範圍涵蓋雙重曝光技術，因此外界猜測，未來雙方合作將不僅45奈米製程，很可能在32奈米製程也會採取配套合作，可能對於應材的市場將有所威脅。

posted by C.H. Chen @ 5:50 PM